大型项目图片背景 某较大型半导产出制造商家座落在长三角经济区型东北部，重点产出晶圆和IC芯片。在产出阶段中中，晶圆切和增加光泽阶段中有巨大磨研液污水，单日排卸出量约50吨。犹豫污池中内含液剂值自动隐藏物、金属制正离子及充分使用剂，可以直接排卸出会对自然环境可能会导致严峻危害，商家亟需设计正规治理基础设施。 生活污水因素及由来 磨光液废气首要起都出自晶圆鑫霖环保中的耐腐蚀机械性磨光（CMP）制作工序，首要影响物涉及到： 悬屏粒子物 ：二脱色硅、脱色铝等机磨颗料，孔径在0.1-1μm，溶度超过2000mg/L。 五金阳离子 ：铜、铁、锌等，产自拋光垫磨坏及晶圆表明废金属层，铜化合物浓硫酸浓度约50mg/L。 有机质“加剂 ：有表层渗透性剂、脱硫剂等，COD值在800-1200mg/L。 强酸强酸性类物质 ：pH值动荡大，通常情况下在2-11两者之间。 处置加工过程流程图 面对污水性能，分为“解决过程+生物化学+程度解决”组装技艺： 改善池 ：匀衡水硬度排水量，增加强酸强碱可以调节pH至中性粒细胞。 混凝土滤渣 ：添加PAC（聚合反应氯化铝）和PAM（pp聚丙烯酰胺），去掉悬停物和氢氧化铁，沉降后SS去掉率>90%。 催化反应空气氧化 ：使用Fenton实验试剂（H₂O₂+Fe²⁺）化学降解有机质含有剂，COD去掉率达60%。 生物技术工作 ：MBR膜怪物症状器进十步分解剩的有机化学物，COD降落到100mg/L下。 化合物互转 ：用硅胶粘合剂离心分离铜化合物，溢水铜含铁<0.5mg/L。 砂滤+催化活性炭纤维过滤清洁 ：保持满水后澄澈，符合《污水处理站终合摆放规范标准规范》（GB8978-1996）考试内容一级规范标准规范。 结果效果好 控制系统启用平衡后： SS<10mg/L，COD<60mg/L，铜阴离子<0.3mg/L。 使用率达40%，剩下的未达标排出，年下降污废水 排出1.6万吨。 治理 成本费用约15元/吨，远高出的行业评均。