某半导体行业集成ic开发厂在晶圆制作加工时中，用硅烷来进行硅外加生长发育，尾气排放洗衣塔造成高渗透压含硅生产生产废水。生产生产废水存在pH下跌大（2-11）、硅含锌量高的特色，传统性正确处理手段易造成硅垢堵赛问題。 生活污水部分及来源地 工业废水其主要部分为： 溶解性性硅酸盐 ：SiO₂质量浓度达1000-1500mg/L 硝酸钠/氢氧化反应钠 ：洗衣塔酸性洗衣液残存 科粒硅 ：納米级SiO₂悬浊液 痕量砷 ：材料杂物带去 加工艺注意事项 科学创新用到"有级结合+膜过滤清洁+挥发晶粒"工艺技术： 四级结合 ：用CaO缓解pH至4-5，导出硅酸钙滤渣，硅彻底清除率60%。 三级中合 ：加Na₂CO₃将pH升级至9，进一大步放置剩余时间硅，串联用镁剂除砷。 反渗透装置操作系统 ：0.02μm陶瓷制品膜油烟净化器納米级硅颗粒剂，通量固定在80LMH。 MVR冷却器器 ：沉淀高盐电镀废水，晶体出Na₂SO₄副新产品，水造纸废水处理率超90%。 从而疗效 总硅从1500mg/L减少为5mg/L以内 砷硫含量从0.8mg/L调至0.01mg/L 装置无水垢程序运行高达2年 每人每年收售硫酸钠钠结晶体约800吨